OPC UA와의 생산라인 통합 :

Nikon X-Ray시스템과 제조실행 시스템의 통합은 표준 프로토콜을 통해 실현 됩니다.

세계 유일의 450kV 마이크로 포커스 발생장치 :

​고 밀도 구성품의 검사를 위해 80μm급 고 해상도 스팟 크기와 고 에너지를 동시에 제공하는 세계 유일의 제품 입니다.

고유한 성능의 225kV Rotating.Target2.0 :

동일한 전려긴 경우 최대 3배 더 높은 해상도로 최대 450W 까지 연속 작동할 수 있고 동일한 해상도의 경우 3배 더 빠른 데이터 수집이 가능 합니다.

'대형 샘플을 위한 전용 스캔 모드 :

​고속 패널 스캔 모든는 검출 위치보다 최대 4배 폭이 넓은 샘플에 대해 확장된 시야각을 제공해 주고, X.Tend는 단일 연속 나선형 스캔을 사용하여 길이가 긴 부품에 대해서도 아티팩트가 없는 데이터를 생성 합니다.

자동화된 검출기 평가 :

평판 검출기는 ASTM E2597 표준에 부합 하므로, 사용자는 ASTM E2737에 따라 이 검출기의 성능을 평가하고 추적함으로써 오랜 시간에 걸쳐 신뢰할 수 있는 검사 효율성과 정확도를 보장할 수 있습니다.